專利審查主要是審查什么內(nèi)容？

初審程序主要是對申請是否存在明顯實質(zhì)性缺陷進行審查。主要包括以下內(nèi)容：

（1）、是否明顯違反法律、社會公德或者妨礙公共利益；

（2）、對依賴遺傳資源完成的發(fā)明創(chuàng)造，其遺傳資源的獲取或利用是否違反法律、行政法規(guī)的規(guī)定；

（3）、是否屬于未經(jīng)專利局進行保密審查而擅自向外國申請專利后，有就相同的內(nèi)容提出的專利申請；

（4）、是否屬于專利法不予保護的對象；

（5）、是否明顯缺乏單一性

（6）、是否明顯缺乏技術(shù)內(nèi)容而不能構(gòu)成技術(shù)方案；

（7）、申請人是否符合要求的資格；

（8）、說明書和技術(shù)交底書撰寫是否符合要求；

（9）、申請文件經(jīng)補正是否超出申請的范圍；

（10）、實用新型專利申請是否明顯不具備新穎性；

（11）、外觀設(shè)計專利申請是否明顯與已經(jīng)的專利相同。

如果以上審查內(nèi)容有不合格的，國家知識產(chǎn)權(quán)局將通知申請人在規(guī)定的時間內(nèi)補正或者陳述意見。逾期不答復(fù)的將視為撤回。

相關(guān)服務(wù)：專利申請